MIPC1000多功能等離子清洗儀，專門(mén)針對(duì)SEM/TEM等各類表面/微觀分析設(shè)備開(kāi)發(fā)，能夠有效去除樣品/樣品桿表面污染物，防止碳沉積帶來(lái)圖像分辨率降低及對(duì)樣品微區(qū)成分分析造成誤判，同時(shí)可改善樣品表面親水性。該系統(tǒng)配備7英寸超大清洗樣品桿，同時(shí)清洗多個(gè)樣品，利用快旋頭設(shè)計(jì)，可滿足SEM/FIB/EPMA/SIMS/XPS/TEM等各類真空腔體清洗，提升儀器分析準(zhǔn)確性。

MIPC1000多功能等離子清洗儀最多可配備四路氣體進(jìn)氣系統(tǒng)，搭配高精度質(zhì)量流量計(jì)（MFC），可實(shí)現(xiàn)任意比例氣體混合，從而實(shí)現(xiàn)不同工藝氣體清洗需求。通過(guò)配備的7英寸觸屏控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)清洗配方的建立和存儲(chǔ)，可實(shí)現(xiàn)一鍵完成樣品清洗。 Downstream過(guò)濾電場(chǎng)能夠過(guò)濾傳統(tǒng)等離子體中離子/電子成分，僅利用低能自由基進(jìn)行清洗，能夠去除濺射損傷、熱效應(yīng)及刻蝕效應(yīng)對(duì)樣品微觀結(jié)構(gòu)和成分的破壞。滿足各類真空設(shè)備樣品/樣品艙清洗，同時(shí)可對(duì)電鏡光闌、各類真空部件進(jìn)行清洗，滿足各種清洗需求。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

◆ 多功能：具備在線腔體清洗和獨(dú)立清洗功能；

◆ 高效性：ICP誘導(dǎo)激發(fā)，清洗范圍廣；

◆ 超高真空清洗：＜5mTor ~ 2Tor ；

◆ 清洗功率范圍大：0-100W ；

◆ 清洗柔和：Downstream設(shè)計(jì)，無(wú)濺射效應(yīng)，  無(wú)熱效應(yīng)；

◆ 可同時(shí)清洗/存儲(chǔ)兩根透射電鏡樣品桿；

◆ 擴(kuò)展性好：采用快旋頭，等離子發(fā)生器，可輕松對(duì)各類真空腔體進(jìn)行清洗；

◆ 超大清洗樣品艙：直徑7英寸X7英寸高；

◆ 能夠碳膜清洗，增加增加碳膜親水性；

◆ 觸屏控制：7英寸觸屏，配方式操作。

主要應(yīng)用

◆ FIB/SEM/TEM/Nano Probe

◆ XPS/GC/SIMS

◆ Synchrotron Radiation

◆ 各類真空腔體清洗

◆ 各類分析設(shè)備樣品清洗

MCA實(shí)機(jī)圖

碳膜清洗夾具